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佳能新光刻機工廠9月投產(chǎn)，主攻成熟制程及封裝應用

佳能開設21年來首家光刻機設備工廠，9月開始運營

佳能計劃今年推出低成本芯片制造機

佳能計劃在2023年售出195臺半導體步進器

佳能宣布研發(fā)3D光刻機明年上市

消息稱佳能將于2023年上半年發(fā)售3D半導體光刻機，曝光面積是現(xiàn)在的4倍

佳能發(fā)售半導體光刻機“FPA-8000iW”：可應對大型方形基板且解像力達1.0微米

聯(lián)系客服投訴反饋頂部

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