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【視頻報(bào)告 2019】Ismail I. KASHKOUSH：下一代半導(dǎo)體器件外延制備前期的襯底清理技術(shù)

視頻IFWS2025-11-25 13:20

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稿件投訴

視頻簡(jiǎn)介：下一代半導(dǎo)體器件外延制備前期的襯底清理技術(shù) In-situ Wafer Cleaning for Pre-Epitaxial Deposition for Next Generation Semiconductor DevicesIsmail I. KASHKOUSH美國(guó)NAURA-Akrion, Inc.首席技術(shù)官 Ismail I. KASHKOUSHChief Technology Officer (CTO) of NAURA-Akrion, Inc., USA

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