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深圳晶源申請(qǐng)光刻膠模型優(yōu)化方法專(zhuān)利，能夠解決模型中存在的過(guò)擬合現(xiàn)象和一致性不佳的技術(shù)問(wèn)題

河北同光半導(dǎo)體申請(qǐng)具有 p/n 結(jié)結(jié)構(gòu)的碳化硅單晶柔性膜專(zhuān)利，實(shí)現(xiàn)碳化硅薄膜高效剝離且無(wú)損傷

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