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上海新陽半導(dǎo)體收到ASML-1400光刻機 將用于研發(fā)193nm ArF光刻膠

日期:2021-03-10 來源:第三代半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)網(wǎng)閱讀:465
核心提示:近日上海新陽半導(dǎo)體材料股份有限公司發(fā)布公告,披露了關(guān)于購買ASML-1400光刻機的最新進(jìn)展。
 3月9日消息,近日上海新陽半導(dǎo)體材料股份有限公司發(fā)布公告,披露了關(guān)于購買ASML-1400光刻機的最新進(jìn)展。
 
上海新陽半導(dǎo)體材料股份有限公司(以下簡稱“公司”)自立項開發(fā) 193nm ArF干法光刻膠的研發(fā)及產(chǎn)業(yè)化項目以來,安排購買了ASML-1400光刻機等核心設(shè)備,并于2020年12月14日在《關(guān)于公司申請向特定對象發(fā)行股票的審核問詢函的回復(fù)》中披露,該光刻機將于 2020 年底前運抵國內(nèi)。后由于公司與光刻機供應(yīng)商、北方集成電路技術(shù)創(chuàng)新中心(北京)有限公司(以下簡稱“合作方”)溝通協(xié)調(diào)設(shè)備運輸與安裝等細(xì)節(jié),致使設(shè)備沒能在規(guī)定時間內(nèi)運達(dá),但與合作方就具體合作細(xì)節(jié)簽署了《合作框架協(xié)議》,并發(fā)布了《關(guān)于ASML-1400光刻機進(jìn)展暨簽訂<合作框架協(xié)議>的公告》,預(yù)計該光刻機將于2021 年 3 月底前進(jìn)入合作方現(xiàn)場,詳見公司于2021年1月5日發(fā)布的相關(guān)公告。
 
現(xiàn)經(jīng)各方積極協(xié)商、運作,該光刻機設(shè)備于今日已進(jìn)入合作方北方集成電路技術(shù)創(chuàng)新中心(北京)有限公司場地,后續(xù)將進(jìn)行安裝調(diào)試等相關(guān)工作。
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