據(jù)上海臨港消息，近日，閔行開發(fā)區(qū)臨港園區(qū)企業(yè)拓荊科技上海二廠舉行啟用慶典并正式投產(chǎn)。拓荊科技成立于2010年4月，主要從事半導體專用設備的研發(fā)、生產(chǎn)、銷售與技術服務。拓荊主要產(chǎn)品包括等離子體增強化學氣相沉積(PECVD)設備、原子層沉積(ALD)設備、次常壓化學氣相沉積(SACVD)設備、高密度等離子體化學氣相沉積(HDPCVD)設備、超高深寬比溝槽填充（Flowable CVD）設備和三維集成 (W2W / D2W Hybrid Bonding) 設備以及相關量測設備等系列，產(chǎn)品主要應用于集成電路晶圓制造、 先進存儲和先進封裝、HBM、MEMS、Micro-LED 和 Micro-OLED 顯示等高端技術領域。

據(jù)介紹，拓荊科技作為半導體薄膜沉積和三維集成設備的領軍者，為行業(yè)發(fā)展開辟新的路徑。拓荊科技上海二廠定位為高端的現(xiàn)代化半導體產(chǎn)業(yè)園區(qū)，其工程車間潔凈度達到國內(nèi)最高標準十級，在產(chǎn)業(yè)園區(qū)類項目中獨樹一幟。項目建成后，將成為臨港新片區(qū)集成電路產(chǎn)業(yè)鏈的關鍵一環(huán)，為區(qū)域集成電路產(chǎn)業(yè)的集聚發(fā)展提供堅實的硬件支撐，助力打造完整的半導體產(chǎn)業(yè)生態(tài)。