在2021年的缺芯、漲價影響下,國內(nèi)外半導體大廠紛紛大幅增加資本開支,建廠擴產(chǎn)。在轟轟烈烈的建廠潮下,中國大陸逐漸于2021年第二季度成長為全球第一大半導體制造設備市場。
一方面,國內(nèi)半導體制造設備市場逐漸成長;另一方面,國內(nèi)芯片制程廠商也開始逐漸使用國產(chǎn)設備。北方華創(chuàng)(002371,SZ),正是國內(nèi)產(chǎn)品種類最豐富的半導體設備廠商。截至12月22日,北方華創(chuàng)的股價在2021年內(nèi)漲幅接近90%。
受2021年以來持續(xù)的“缺芯”影響,各大半導體廠商大幅建廠擴產(chǎn)。特別是臺積電宣稱未來3年內(nèi)將投入1000億美元增加產(chǎn)能。除臺積電外,三星、英特爾、格芯、中芯國際等半導體制造企業(yè)均有大規(guī)模投資建廠的計劃。
受益于半導體擴產(chǎn)潮
中國大陸市場半導體設備需求尤為火熱,根據(jù)9月7日SEMI發(fā)布的《全球半導體設備市場報告》,2021年第二季度全球半導體設備出貨金額達249億美元,創(chuàng)歷史新高,同比增長48%。中國大陸、韓國、中國臺灣地區(qū)位列前三:中國大陸第二季度半導體設備出貨82.2億美元,同比增長79%;韓國第二季度半導體設備出貨額為66.2億美元,同比增長48%;中國臺灣地區(qū)第二季度半導體設備出貨50.4億美元,同比增長44%。
目前全球半導體設備市場主要由美國、日本、荷蘭廠商控制。國內(nèi)廠商方面,主要以北方華創(chuàng)、中微公司、盛美上海為主。晶圓制造過程主要包括7個相互獨立的工藝流程:光刻、刻蝕、薄膜沉積、擴散、離子注入、化學機械拋光、金屬化。其中,光刻、刻蝕、薄膜沉積為設備價值最高的三個流程,價值占比之和超過50%。另外,隨著工藝復雜度的提高,清洗設備的重要性也在逐漸提高。
相比中微公司側重刻蝕,盛美上海側重清洗,北方華創(chuàng)的產(chǎn)品則覆蓋刻蝕、薄膜沉積和清洗。北方華創(chuàng)在2020年年報中表示:“公司集成電路先進制程多種產(chǎn)品通過客戶驗證,成熟制程設備工藝覆蓋率快速提升??涛g機、PVD、立式爐、清洗機等產(chǎn)品在集成電路、先進封裝主流客戶實現(xiàn)規(guī)模銷售。”
公司產(chǎn)品種類豐富
國產(chǎn)廠商已經(jīng)在刻蝕設備、清洗設備、薄膜沉積設備中占據(jù)部分市場份額。以長江存儲2021年9月至11月上旬數(shù)據(jù)為例,其刻蝕設備主要采購自北方華創(chuàng),共計2臺,另有4臺薄膜沉積設備采購自北方華創(chuàng)。
此案例中,長江存儲采購自北方華創(chuàng)各項設備的量并非最多,但產(chǎn)品種類確實最廣,包括薄膜沉積設備、退火設備、刻蝕設備、氧化設備和爐管設備,各類產(chǎn)品數(shù)量合計10多臺。
根據(jù)東吳證券數(shù)據(jù),截至2020年12月,半導體設備中,刻蝕設備、薄膜沉積設備、量檢測設備、清洗設備、離子注入設備、CMP設備、涂膠顯影設備的國產(chǎn)設備率分別為7%、8%、2%、20%、2%、10%、7%,而光刻設備的國產(chǎn)設備率仍是0%。
可以看出,薄膜沉積設備方面,北方華創(chuàng)中標的PVD(物理氣相沉積)、CVD(化學氣相沉積)、ALD(原子層沉積)設備分別為14臺、5臺和1臺,共計20臺;中微公司中標的MOCVD(金屬有機化合物化學氣相沉積)設備為1臺;沈陽拓荊中標的CVD為24臺。也就是說,在上述時間段中,北方華創(chuàng)在薄膜沉積設備銷量方面僅次于沈陽拓荊,在國產(chǎn)廠商中排名第二。
清洗設備方面,北方華創(chuàng)中標的濕法清洗設備為13臺。而芯源微、盛美上海、屹唐半導體中標的濕法清洗設備分別為8臺、14臺和2臺。即北方華創(chuàng)在上述時間段中,于國產(chǎn)清洗設備廠商中銷量排名第二,僅次于盛美上海。
