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北方華創(chuàng)“上電極裝置及半導(dǎo)體工藝設(shè)備”專利公布

日期:2025-02-14 閱讀:267
核心提示:天眼查顯示,北京北方華創(chuàng)微電子裝備有限公司上電極裝置及半導(dǎo)體工藝設(shè)備專利公布,申請公布日為2024年12月31日,申請公布號(hào)為CN

天眼查顯示,北京北方華創(chuàng)微電子裝備有限公司“上電極裝置及半導(dǎo)體工藝設(shè)備”專利公布,申請公布日為2024年12月31日,申請公布號(hào)為CN119230366A。

本發(fā)明公開了一種上電極裝置及半導(dǎo)體工藝設(shè)備,上電極裝置包括:進(jìn)氣結(jié)構(gòu),貫穿腔室蓋板設(shè)置,并與腔室蓋板活動(dòng)密封連接,用于向工藝腔內(nèi)通入工藝氣體;第一調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu),包括至少一個(gè)第一位移導(dǎo)向組件,第一位移導(dǎo)向組件與進(jìn)氣結(jié)構(gòu)的位于腔室本體外的一端連接,用于在進(jìn)氣結(jié)構(gòu)沿第一水平方向移動(dòng)時(shí)對進(jìn)氣結(jié)構(gòu)進(jìn)行導(dǎo)向;第二調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu),包括至少一個(gè)第二位移導(dǎo)向組件,第二位移導(dǎo)向組件與進(jìn)氣結(jié)構(gòu)的位于腔室本體外的一端連接,用于在進(jìn)氣結(jié)構(gòu)沿第二水平方向移動(dòng)時(shí)對進(jìn)氣結(jié)構(gòu)進(jìn)行導(dǎo)向,其中,第一水平方向與第二水平方向相交。本發(fā)明可提高上電極進(jìn)氣結(jié)構(gòu)與晶圓之間同軸度調(diào)節(jié)的可控性和便利性。

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