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泰科天潤(rùn)“一種低導(dǎo)通電阻三柵縱向碳化硅MOSFET”專利獲授權(quán)

日期:2024-12-11 閱讀:257
核心提示:天眼查顯示,泰科天潤(rùn)半導(dǎo)體科技(北京)有限公司近日取得一項(xiàng)名為一種低導(dǎo)通電阻三柵縱向碳化硅MOSFET的專利,授權(quán)公告號(hào)為CN22

天眼查顯示,泰科天潤(rùn)半導(dǎo)體科技(北京)有限公司近日取得一項(xiàng)名為“一種低導(dǎo)通電阻三柵縱向碳化硅MOSFET”的專利,授權(quán)公告號(hào)為CN221960977U,授權(quán)公告日為2024年11月5日,申請(qǐng)日為2024年3月18日。

本實(shí)用新型提供了一種低導(dǎo)通電阻三柵縱向碳化硅MOSFET,超結(jié)區(qū)內(nèi)設(shè)有漂移層,超結(jié)區(qū)及漂移層連接至碳化硅襯底;溝道區(qū)內(nèi)設(shè)有掩蔽層,溝道區(qū)以及掩蔽層連接至漂移層;隔離區(qū)連接至掩蔽層;源區(qū)連接至隔離區(qū);第一柵極絕緣層連接至掩蔽層,第一柵極絕緣層內(nèi)設(shè)有第一溝槽;第一源極金屬層分別連接超結(jié)區(qū)以及溝道區(qū);第二柵極絕緣層分別連接第一源極金屬層、隔離區(qū)以及源區(qū);第二柵極絕緣層內(nèi)設(shè)有第二溝槽;第二源極金屬層分別連接第一柵極絕緣層、第二柵極絕緣層以及源區(qū);第一柵極金屬層設(shè)于第一溝槽內(nèi);第二柵極金屬層設(shè)于第二溝槽內(nèi);漏極金屬層連接至所述碳化硅襯底,提高了柵控能力,降低了器件的導(dǎo)通電阻。

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