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鄭州勢(shì)壘取得用于金剛石生長(zhǎng)的 MPCVD 裝置專利,能有效隔離外界空氣維持真空工作環(huán)境

日期:2024-12-23 閱讀:260
核心提示:國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局信息顯示,鄭州勢(shì)壘科技有限公司取得一項(xiàng)名為種用于金剛石生長(zhǎng)的 MPCVD 裝置的專利,授權(quán)公告號(hào) CN 222182548 U,

 國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局信息顯示,鄭州勢(shì)壘科技有限公司取得一項(xiàng)名為“種用于金剛石生長(zhǎng)的 MPCVD 裝置”的專利,授權(quán)公告號(hào) CN 222182548 U,申請(qǐng)日期為 2024 年 4 月。

專利摘要顯示,本申請(qǐng)涉及一種用于金剛石生長(zhǎng)的 MPCVD 裝置,包括殼體,其具有上蓋,殼體內(nèi)設(shè)有水冷臺(tái),水冷臺(tái)上端設(shè)有鉬臺(tái),水冷臺(tái)和上蓋之間設(shè)有呈圓環(huán)形的微波石英罩,上蓋、微波石英罩和水冷臺(tái)圍成反應(yīng)腔,上蓋上設(shè)有與上蓋密封連接的多個(gè)視窗和與反應(yīng)腔連通的進(jìn)氣通道,水冷臺(tái)包括水平部和伸出殼體底部的豎直部,水冷臺(tái)內(nèi)設(shè)有與反應(yīng)腔連通的出氣通道,水冷臺(tái)內(nèi)還設(shè)有液冷通道,液冷通道具有進(jìn)水通道和出水通道。本申請(qǐng)反應(yīng)腔密封效果好,能有效隔離外界空氣,維持了反應(yīng)腔內(nèi)真空工作環(huán)境。

 

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