X射線衍射（XRD）技術(shù)在半導(dǎo)體薄膜研究中具有廣泛的應(yīng)用，是半導(dǎo)體薄膜研究中不可或缺的工具，尤其在先進(jìn)制程（如28nm以下節(jié)點(diǎn)）中，對High-k材料、應(yīng)力調(diào)控及界面優(yōu)化的分析具有不可替代的作用。‌ 近日，年度國際第三代半導(dǎo)體行業(yè)盛會——第十一屆國際第三代半導(dǎo)體論壇&第二十二屆中國國際半導(dǎo)體照明論壇（IFWS&SSLCHINA 2025）在廈門隆重召開，本屆論壇由第三代半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)技術(shù)創(chuàng)新戰(zhàn)略聯(lián)盟（CASA）、中關(guān)村半導(dǎo)體照明工程研發(fā)及產(chǎn)業(yè)聯(lián)盟（CSA）、廈門大學(xué)（XMU）共同主辦，惠新（廈門）科技創(chuàng)新研究院、北京麥肯橋新材料生產(chǎn)力促進(jìn)中心有限公司承辦。論壇以“鏈通全球·芯動未來”為主題，匯聚全球頂級精英，技術(shù)與產(chǎn)業(yè)并舉，全面覆蓋半導(dǎo)體照明和第三代半導(dǎo)體及相關(guān)領(lǐng)域的前沿?zé)狳c(diǎn)、技術(shù)應(yīng)用與產(chǎn)業(yè)趨勢。

馬爾文帕納科公司大中華區(qū)半導(dǎo)體行業(yè)總監(jiān)鐘明光受邀參會，并在“氮化物材料生長及光電技術(shù)”分會上帶來了《X射線衍射技術(shù)于半導(dǎo)體薄膜之研究應(yīng)用》的主題報(bào)告，分享了相關(guān)研究最新進(jìn)展及成果，涉及氮化鎵晶體質(zhì)量檢測、氮化鎵面內(nèi)晶格常數(shù)、氮化鎵搖擺曲線的可重復(fù)性、再現(xiàn)性GaN搖擺曲線、AlGaN勢壘厚度、GaN基結(jié)構(gòu)的RSM、SECS/GEM兼容Fab接口等內(nèi)容。

報(bào)告顯示，所使用的配置能夠在晶圓廠環(huán)境中測量和分析平面內(nèi)和平面外掃描；通過自動光學(xué)+自動加載，可以在一分鐘內(nèi)評估平面扭曲。155°2θ以上的平面晶格參數(shù)測量提供了無與倫比的分辨率。RSM在高角度和強(qiáng)傾斜度下進(jìn)行評估，以提高峰值分離和魯棒性。報(bào)告指出，為了更好的應(yīng)對挑戰(zhàn)，將在符合潔凈室標(biāo)準(zhǔn)的SecsGem解決方案中的靈活測量模式，不同的硬件選項(xiàng)可優(yōu)化時間或分辨率，面向未來光學(xué)模塊的硬件平臺，深入工具細(xì)節(jié)的合格培訓(xùn)等方面進(jìn)一步拓展。 

論壇期間，因卓越的產(chǎn)品和服務(wù)榮膺由兩大論壇聯(lián)合頒發(fā)的“檢測量測設(shè)備年度推薦品牌”獎，彰顯了公司在檢測量測設(shè)備領(lǐng)域的競爭優(yōu)勢。 

關(guān)于馬爾文帕納科

馬爾文帕納科專注于微觀領(lǐng)域材料表征。主營產(chǎn)品有激光粒度儀、納米粒度電位儀、噴霧粒度儀、在線粒度儀、粒度粒形分析儀、納米顆粒跟蹤分析儀、X射線衍射儀、X射線熒光光譜儀、等溫滴定微量熱儀、差示掃描微量熱儀、分子互作儀。幫助用戶更好地了解各種各樣的材料，從蛋白質(zhì)和聚合物、顆粒和納米顆粒懸浮液和乳狀液，再到噴霧劑和氣霧劑、工業(yè)散裝粉末、礦物和高濃度漿類樣品及固體，例如金屬和建筑材料、塑料和聚合物。 我們的技術(shù)可以測量顆粒粒度、形狀和濃度、化學(xué)成分、Zeta 電位、蛋白質(zhì)電荷、分子量、質(zhì)量和構(gòu)象、分子間相互作用和穩(wěn)定性、元素濃度、晶體結(jié)構(gòu)，元素及物相等參數(shù)。