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華海清科“用于晶圓加工的承載頭及化學(xué)機械拋光設(shè)備”專利公布

日期:2025-01-21 閱讀:283
核心提示:天眼查顯示,華海清科股份有限公司用于晶圓加工的承載頭及化學(xué)機械拋光設(shè)備專利公布,申請公布日為2024年12月13日,申請公布號為

 天眼查顯示,華海清科股份有限公司“用于晶圓加工的承載頭及化學(xué)機械拋光設(shè)備”專利公布,申請公布日為2024年12月13日,申請公布號為CN119115785A。

本申請?zhí)峁┮环N用于晶圓加工的承載頭及化學(xué)機械拋光設(shè)備。承載頭包括:承載頭主體;設(shè)置于承載頭主體朝向晶圓的一側(cè)的保持環(huán),保持環(huán)將晶圓限定在其中;防滑片機構(gòu),其至少部分地設(shè)置在保持環(huán)中,防滑片機構(gòu)配置成可軸向伸縮,以在保持環(huán)抵靠拋光單元時縮回到保持環(huán)中,并在保持環(huán)與拋光單元軸向分開時從保持環(huán)伸出,防滑片機構(gòu)由耐腐蝕性材料制成。根據(jù)本申請的技術(shù)方案,有效避免了晶圓滑出,減少了晶圓破碎的風(fēng)險,并保證了防滑片機構(gòu)的有效性。

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